严格的说，10μm的分辨率下，5μm的套刻精度都是够用的。
现在，高振东可以直接宣布，我们的第一代PMOS工艺集成电路，线宽是10μm。
这个线宽听起来不咋样，但是举个例子就知道它的用处了，DJS-59的原型，那片金色的C8008，它的工艺就是10μm-PMOS！那一小片芯片上，晶体管数量是6000+。
而首个4Kbit（512Byte）的DRAM，工艺是8μm-NMOS，虽然是NMOS，但是并不意味着只有NMOS才能用于和NMOS的最大区别是开关方向相反，而且NMOS开关速度比PMOS要快2.5倍左右。
但是这是61年，PMOS慢点又不是不能用。
可惜那两片芯片出现的时候，高振东还没法锁定兑换的能力，但是这没有关系，还是那句话，行业初期，主打一个简单凑合能用就行，设计的核心难度不大。
DJS-59的晶体管的电路，其实基本上和C8008内是一模一样的，现在高振东要做的，就是把这个结构还原到光刻掩模上去。
不过这是个力气活儿，高振东一个人是搞不成的，太浪费时间了，这个事情，可就落在京城工大这一届的部分大四学生头上了。
原本高振东的考虑是光刻机不敢太乐观，初期预计是50μm左右，后来看到三轧厂的老师傅和东北光学所如此给力，才把SZ61XXX系列芯片头三片改为了20μm。
现在扎扎实实的10μm有望，那不得乐死，就算得先教半年学生，再画上个一年两年的图，那也是一个字儿——值！
而且有了这些基础，能搞的事情，可就多了，比如自动化人的最爱——单片机。
不过不论是CPU化的DJS-59也好，还是单片机也好，都还需要时间，至少得等两样东西。
——集成电路工艺的真正成熟、芯片的完整设计。
尤其是单片机，这东西看起来和通用CPU差不多，但是在当前的运算速度之下，最好使用另外一个结构——哈佛结构。
相对冯.诺依曼结构来说，这个结构的效率更高一些。
这些都是后话，现在的当务之急，是把光刻机投入到集成电路工艺中去，尽快让整条集成电路的工艺成熟，至少先生产出一定数量的基础数字逻辑芯片，让大家用起来。
别看这东西基本全手工，但是产量在这个年代来说并不低了，当然，和后世全自动光刻生产线没得比。
按照一片逻辑电路芯片使用5mm*5mm硅片面积来粗略计算的话，一片130mm晶圆能生产出500枚芯片来。
别看5*5这个面积很小，实际上在10μm工艺下，它几乎能生产类似74全系列的数字逻辑芯片了，大部分数字逻辑芯片最耗费硅片面积的部分，其实是它的线路引出的压接点。
如果说CPU、单片机都还有那么一点遥远的话，那对于大部分常用数字逻辑电路来说，到了这个阶段，制约它的就主要是芯片的设计速度有多快了，毕竟数字逻辑电路这个家族实在是有些庞大。
对于这个事情
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