工件台又一次加热硅片，给工件做了一次坚膜，加固已经保留的光刻胶，进一步清除不需要的那部分胶以及其他成分的残留物。
坚膜完成之后，硅片被再次从头开始，开始了第二次的光刻流程，用的还是那块标准掩模。
显影完成后，二次光刻的光刻胶被固化，多余部分被清除，硅片被送到了显微镜下。
刚刚把硅片表面的清晰显微图像跳出来，马娟就语带欣喜的啊了一声。
“师兄，有了有了，能看出来，精度好高啊！”
马娟一边瞄着显微镜，一边嘴里喊着。
对于套刻精度高这一点，高振东是有所预计的，决定套刻精度的主要就是工件台，而三轧厂的一帮老师傅大发神威，将工件台的定位精度搞到了1.5μm。
而东北光学所的光学系统图形畸变只有1个μm不到，这两者结合起来，套刻精度绝对差不了。
不过估计归估计，在没看到真正结果那一天，谁都不敢彻底把心放下来。
听见马娟的话，高振东哈哈大笑：“来来来，我看看。”
马娟从显微镜下让开，高振东把眼睛凑到显微镜的目镜外，显微镜里甚至能看到他自己的眼睫毛，但他现在明显没有闲心观察自己的睫毛是否好看，急着往视场里看去。
显微镜里，两次光刻的痕迹非常明显，一条叠在另一条上面，重合度非常高。
两次光刻的痕迹，两边各露出来一小部分，这部分的单边宽度，基本上就是套刻误差了，粗粗看去，目测连整个线宽的一小半都不到。
“好！太好了！马娟，你们选取一些典型点位，要覆盖到整个硅片，马上做个比较全面的测量比较。”
另外一个试验人员走了上来，和马娟一起，一边找点，一边测量，一边记录。
时间的相对论在这里体现得淋漓尽致，马娟她们觉得时间过得很快，而等结果的高振东等人觉得时间过得太慢了。
又快又慢的一段时间过去后，试验人员在计算机面前坐下来，开始将数据输入计算机，这种简单统计分析，他们都是直接在源代码里敲数据。
处理算法的C代码早就写好了，现在他们就是在往一个数组里填数据而已。
这种办法，好就好在处理算法可以随时根据需要修改。
键盘声啪啪作响，现场人员的心情反而安定下来，从刚才他们测量中报的数来看，这个结果差不了。
随着最后一个数据输入完毕，马娟启动了编译-运行指令。
算法过于简单，没有带来任何调试上的麻烦，很快，屏幕上就跳出了一个数字。
编过临时程序的人都懂，怎么简单怎么来，这个数字甚至不带任何单位。
“1.97”。
其实小数点后一位就够了，那个没有写出来的单位，是μm。
2μm！
虽然早有所料，但是当这个数字跳出来的时候，高振东还是哈哈大笑了起来。
“哈哈哈……好！太好了！”
这个套刻精度，已经超出了当前所需，PMOS套刻次数少，其实不
（本章未完，请点击下一页继续阅读）