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第二十四章 坑要挖得深一点、密一点

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于此!

    “在上次研究所会议中,我已经宣布,公司下一步打算开发一种磁『性』记录介质,并研制配套的记录设备,想来各位都已经知道了。”他没有时间多做感叹,立即单刀直入。

    陈中等人都一齐点头。

    “陈主任,你在磁『性』材料领域从事了数十年研究,我想先请你介绍一下国际国内现行的磁记录方式,以及它们的加工工艺,并品评一下各自的优缺点。”他点名道。

    “好的。”

    陈中满口答应,他在这方面搞了几十年研究,不但熟悉国内的研究现状,对于国际最新动态也没有放松关注。兼之郭逸铭向他透『露』了大致的研究方向,他下来查了很多资料,准备充分,随即朗朗说道:“磁『性』记录材料,最早始于1898年,丹麦工程师poulsen发明了磁『性』钢丝录音机。80多年来,磁『性』记录介质已经由磁『性』钢丝发展为塑料薄膜带基――也就是磁带、塑料薄膜盘片――也就是磁盘等多种介质,演化出录音带、录像带、数据记录磁带、数据存储磁盘等一系列现代磁『性』记录载体。

    具体的磁介质加工工艺,有涂敷式、真空溅『射』式、离子渗透式,目前涂敷式磁『性』材料制备是主要制作方式,在大容量数据磁盘的制造中,则通常采用真空溅『射』式工艺。

    涂敷式无需介绍,这是用沾粘胶把磁粉涂抹在不同的基质上,从而获得磁记录介质的工艺方法。优点是制作简便、成本低,可以大批量制造。但品质不高,无法作为大容量高密度存储介质。通常用于制作磁带、录像带。

    真空溅『射』,是在真空环境下,通过离子喷溅的方式来实现磁『性』材料附着于介质表面。这种方法制造出来的磁记录介质,表面涂层均匀,颗粒细微,而且由于是冷温,介质不会出现变形,非常适用于大容量数据存储。

    ibm在1967推出的第一款磁盘,直径32英寸,采用的就是涂敷式。76年制造出5英寸盘,存储容量仅有180kb,他的发明人alanshugart于去年离开了ibm,利用这项技术开办了一家采用金属为介质的驱动器生产厂,取名为希捷。同时日本方面也推出一款基于3.5英寸塑料薄膜的软盘,存储容量为875kb,采用的是较为昂贵的真空溅『射』法制造。”

    简明扼要,便将现行主要的制备方法,和国际上最新的数据存储发展,作了一番总结。

    其他的研究员,也便都清楚公司下一步准备开发的产品,应该也是一款计算机使用的数据存储介质,软盘及其读写驱动器。

    “很好,陈主任介绍得很全面!”

    郭逸铭拍拍手,将众人的注意力集中到他身上:“通过陈主任的说明,我向大家都知道了我们接下来的工作,没错,就是研究一款软盘和与之配套的驱动器。

    这方面,公司已经有相应的技术储备……”

    他看看被提起兴趣的研究员们,笑着说道:“公司的相关储备技术分为磁『性』材料的制备、磁记录介质的制备、磁头材料三个方面。”

    听到西部计算机公司在这三个主要关键技术上都有相应技术储备,所有人都是一振。软盘及软盘驱动器,最关键的就是这三个方面,解决了这三个方面,将之制造出来也不过是顺水推舟的事情。

    “首先是磁『性』材料,现行的主要材料是氧化铁,这种材料来源广泛,可以从钢铁厂酸洗池中大量获得,磁带、磁盘大都采用氧化铁为磁记录材料。

    制备方法主要采用浓缩法和化学共沉法。

    浓缩法需要经过多次浓缩、分解,工序比较多,成本较高,颗粒细度为20到400微米。

    化学共沉法通过添加催化剂,使之反应中和沉淀,制备出来的氧化铁颗粒非常细腻,其直径小于0.5微米,是制造大容量高密度软盘的优秀材料。但这种方法污染严重,而且分离困难,工序更加繁复,成本相当高。

    我

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