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第085章 研发成功了!

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用于光刻。”

    他的语气一顿,继续说道。

    “先说坏消息。”

    “现在的问题在于,光刻机的对准系统出现了问题。”

    “在晶圆光刻后,始终会出现一定的偏差!”

    贺志远突然流露出一丝微笑。

    “至于好消息是,我已经想到了解决这个问题的方法!”

    “如果不出意外,目前我们所掌握的光刻技术,至少能够制造出1纳米级别的芯片!”

    正当众人准备鼓掌的时候。

    贺志远举起了手制止了众人。

    “还没成功呢!”

    “何况这点成就,与苏总工的冷核聚变来说,根本不足为题。”

    “你们快去将光刻机的模具拿过来,还有光刻机对准系统的工作日志打印下来。”

    “我现在就要对于光刻机的对准系统,进行改良!”

    在贺老的言语之下,实验室里的众人立刻忙碌了起来。

    贺志远看着头顶明亮的灯泡,流露出笑容。

    其实能够在这么短的时间内,光刻机取得阶段性的进展,还是取决于苏川。

    首先是,对于苏川提出脉冲冷激光的想法,直接改变了他的思路。

    这段时间,他们一直在研究脉冲冷激光。

    在此之前,尝试的极紫外光最多也就保证10纳米到15纳米精度的光刻。

    脉冲冷激光则既然相反。

    在理论上甚至能够达到1纳米级别,甚至更为精细的光刻!

    他们在短时间内,光刻机的核心技术,曝光系统突飞猛进。

    反而是对准系统,开始拖后腿了。

    不过在今天发生的低频电磁脉冲意外后。

    实验室里不断闪烁的灯光,给了贺老灵感。

    没错,对准系统的解决方法很简单。

    只需要反复关闭启动脉冲冷激光,以闪烁的方式进行光刻,在光刻中因为持续运作所造成的误差,可以大幅度减少。

    贺老看着几名工作人员递交过来的对准系统运行日志,以及晶圆模具笑了起来。

    一切与他计算的一致!

    从另外的一个角度来说。

    大夏的高精度光刻机,已经可以提前宣布,研发成功了!

    
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